Short Description
Bei dieser Anlage handelt es sich um eine Ultrahochvakuum-Dünnfilmbeschichtungsanlage zur Abscheidung von dünnen (~100 nm) Schichten verschiedener Materilalien, wie sie zu Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Quantenphysik benöigt werden. Ultrahochvakuumkammer zur Verarbeitung oxidationsemfindlicher Materialien. Beschichtung per Elektronenstrahlverdampfung und Sputtern. Möglichkeit der Abscheidung von Nitriden und Oxiden durch reaktives Sputtern. Substratkühlung zur Vermeidung thermischer Degradation von Polymermasken. In-situ Rotation des Substrats zur Verbesserung der Schichthomogenität. Argon-Ionenquelle zur in-situ Plasmareinigung von Substraten.
Contact Person
Dr. Markus Weiss
Research Services
Nanofabrikation, Dünnfilmbeschichtung
Die Forschungsinfrastruktur ist "Open for Collaboration". Kommerzielle Kooperationen sind nicht möglich.
Methods & Expertise for Research Infrastructure
Abscheidung dünner Filme verschiedener Materialien zur Herstellung von Nanostrukturen für die Quantenphysik
Nutzungsbedingungen werden im Rahmen einer wissenschaftlichen Kooperation definiert. Keine kommerzielle Nutzung möglich. Bei Interesse an einer Kooperation oder Zusammenarbeit bitten wir Sie um Kontaktaufnahme.
Institut für Quantenoptik und Quanteninformation Innsbruck, Österreichische Akademie der Wissenschaften