Kurzbeschreibung
Oxford Plasmalab System 100 und Zusatzausstattungen
Reaktive Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma und Einrichtung zur Substratkühlung mit flüssigem Stickstoff. Die Anlage dient zum anisotropen Ätzen von Nanostrukturen in Silizium-basierte Heterostrukturen.
Ansprechperson
Univ.-Prof. Dr. Armando Rastelli
Research Services
Oxford Plasmalab System 100 und Zusatzausstattungen
Reaktive Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma und Einrichtung zur Substratkühlung mit flüssigem Stickstoff. Die Anlage dient zum Anisotropen Ätzen von Nanostrukturen in Silizium-basierte Heterostrukturen.
Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur
Zur Realisierung nanoelektronischer und nanooptischer Bauelemente werden Silizium-Germanium-Strukturen durch anisotrope Plasmaätzverfahren bearbeitet. Die Cryo-Ausführung des Oxford Plasmalab 100 ist eine Grundvoraussetzung für Forschung in den Bereichen Nanotechnologie und IKT.
R. Jannesari, M. Schatzl, F. Hackl, M. Glaser, K. Hingerl, T. Fromherz and F. Schäffler,
Opt. Express 22, 25426-25435 (2014),
http://dx.doi.org/10.1364/OE.22.025426
Single SiGe quantum dots deterministically aligned to the antinodes of a photonic crystal cavity mode,
M. Schatzl, F. Hackl, T. Fromherz, F. Schäffler,
IEEE Proc. 12th Int. Conf. Group IV Photonics (GFP), pp. 39-40 (2015)
http://dx.doi.org/10.1109/Group4.2015.7305943