Kurzbeschreibung
Der Thermo Scientific Helios 5 Plasma FIB (PFIB) DualBeam (fokussierter Ionenstrahl-Rasterelektronenmikroskop oder FIB-SEM) bietet unübertroffene Fähigkeiten für Materialwissenschaften und Halbleiteranwendungen. Für Materialwissenschaftler bietet das Helios 5 PFIB DualBeam eine großvolumige 3D-Charakterisierung, galliumfreie Probenvorbereitung und präzise Mikrobearbeitung. Das Gerät verfügt außerdem über EDS- (energiedispersive Spektroskopie) und ToF-SIMS-Detektoren (Flugzeit-Sekundärionen-Massenspektroskopie) zur Charakterisierung der Materialchemie. Zusätzlich ist eine Kryostufe für die Charakterisierung von Polymeren oder luftempfindlichen Materialien verfügbar.
Ansprechperson
Megan Cordill
Research Services
Materialcharakterisierung im Mikro- und Nanobereich
Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur
Das Helios Plasma FIB ist ein Dual-Beam-Instrument, das ein hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop (REM) mit einem Plasma-Ionenstrahl kombiniert und so die Analyse von Materialien im Nanobereich ermöglicht. Zu den wichtigsten Methoden gehören Querschnitts- und TEM-Probenvorbereitung, 3D-Slice-and-View-Tomographie, Ionenstrahlfräsen bei kryogenen Temperaturen und SEM-basierte Zusammensetzungscharakterisierung (EDS/TOF-SIMS). Diese Infrastruktur unterstützt die eingehende Untersuchung von Mikrostruktur, Phasenzusammensetzung und Defektchemie in einer Vielzahl von fortschrittlichen Materialien.