Kurzbeschreibung
Der SUSS MJB4 Mask Aligner ist ein kompaktes, manuelles Maskenausrichtgerät für Forschung und Kleinserienproduktion. Er ist optimiert für die hochpräzise UV‑Photolithografie von Substraten bis 100 mm Durchmesser und bietet eine Auflösung unter 0,5 µm. Die Kombination aus präziser Optik und flexibler Justierung ermöglicht exakte Musterübertragungen in Anwendungen wie MEMS, Optoelektronik und mikrostrukturierten Materialien.
Das System unterstützt verschiedene Belichtungsmodi (Soft‑, Hard‑ und Vakuumkontakt) und kann mit Singlefield‑ oder Splitfield‑Mikroskopen ausgestattet werden, um eine klare Mustererkennung und präzise Maskenausrichtung zu gewährleisten. Die intuitive Bedienung reduziert Einrichtungszeiten und steigert die Effizienz im Laboralltag. Modulare Upgrades, wie UV‑Nanoimprint‑Lithografie, erweitern die Prozessmöglichkeiten.
Die robuste Konstruktion und die kosteneffiziente Gestaltung machen den MJB4 ideal für Universitäten, Forschungseinrichtungen und F&E‑Labore, die eine flexible Lithografielösung suchen. Hohe Lichtuniformität, präzise Justage und schnelle Substratwechsel tragen zu reproduzierbaren Ergebnissen und stabilen Prozessen bei. Insgesamt bietet der MJB4 eine zuverlässige Grundlage für anspruchsvolle Mikro‑ und Nanostrukturierungsprozesse.
Ansprechperson
Gerhard Kirchmair
Research Services
Nanofabrikation
Die Forschungsinfrastruktur ist "Open for Collaboration". Kommerzielle Kooperationen sind nicht möglich.
Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur
Die Forschungsinfrastruktur SUSS MJB4 Mask Aligner ermöglicht präzise UV‑Photolithografie für Substrate bis zu 100 mm Durchmesser mit Submikrometerauflösung. In Kombination mit der Expertise der betreuenden Wissenschaftler werden die Ausricht- und Belichtungsprozesse für die Herstellung mikro- und nanoskaliger Strukturen optimiert. Die Infrastruktur wird regelmäßig für Anwendungen in MEMS, Optoelektronik, Mikrofluidik und Nanoimprint Lithografie (UV‑NIL) eingesetzt.
Die betreuenden Forscher verfügen über umfassende Erfahrung in der Maskenpositionierung, Belichtungsparametrierung und Prozesskontrolle, wodurch reproduzierbare und hochauflösende Muster erzeugt werden können. Die Infrastruktur erlaubt flexible Belichtungsmodi (Soft-, Hard- und Vakuumkontakt) und kann sowohl Singlefield- als auch Splitfield-Mikroskope nutzen, um komplexe Strukturen präzise auszurichten.
Diese Kombination aus hochpräziser Hardware und fundierter fachlicher Expertise unterstützt sowohl Forschungsprojekte in Kooperation mit externen Institutionen als auch Pilotprojekte in Kleinserienproduktion. Die vorhandene Dokumentation von Prozessen, Parametern und erfolgreichen Anwendungen erleichtert die schnelle Einarbeitung neuer Nutzer und ermöglicht zielgerichtete, kollaborative Forschungsarbeiten.
Nutzungsbedingungen werden im Rahmen einer wissenschaftlichen Kooperation definiert. Keine kommerzielle Nutzung möglich. Bei Interesse an einer Kooperation oder Zusammenarbeit bitten wir Sie um Kontaktaufnahme.
Institut für Quantenoptik und Quanteninformation Innsbruck, Österreichische Akademie der Wissenschaften