Kurzbeschreibung
Die Rolle-zu-Rolle Nanoimprint-Lithografie (Roll-to-Roll-NIL, R2R-NIL) ermöglicht eine kontinuierliche und daher kostengünstige Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf großflächigen Foliensubstraten für Anwendungen in Hochtechnologiebereichen wie Elektronik, Optoelektronik, Photovoltaik, Sensorik, Folienveredelung und Verpackung, sowie Pharmazeutik und Biowissenschaften.
Technische Daten:
• Walzenbreite 300 mm
• Arbeitsbreite max. 250 mm
• Zugspannung max. 250 N
• Geschwindigkeit der Bahn 0.5 - 30 m/min
• Corona-Leistung max. 1000 W
• Trockner-Temperatur max. 200°C
• UV-Lampenleistung max. 200 W/cm
• Liniendruck der UV-Prägeeinheit max. 18 kN/Arbeitsbreite
• Liniendruck im Heißprägekalander max. 100 kN/Arbeitsbreite
• Temperatur beim Heißprägen max. 220°C
• Laminar Flowbox ISO 7, Reinraumklasse 10.000
Ansprechperson
MATERIALS - DI Dr. Paul Hartmann
Research Services
Die R2R-Pilotanlage ermöglicht:
• die umweltverträgliche Herstellung hochaufgelöster leitender Strukturelemente für die organische Elektronik (feine Leiterbahnen, nanoskalige Elektroden für organische Transistoren),
• die präzise Erzeugung optischer 2.5D-Strukturen für das Management von Licht in Folien (Ein- und Auskopplung, Lichtleitung) für Anwendungen in der Photonik,
• die großflächige Realisierung von 3D-strukturierten bionischen Oberflächen und komplexen Nanostrukturen, die Effekte aus der Biologie technisch nutzbar machen (Haifischhaut, Lotuseffekt, Geckoeffekt, Strukturfarben),
• die kostengünstige Fertigung von komplexen mikrofluidischen Elementen in Folie als Basis von Biosensoren für Lab-on-Foil Analysesysteme und
• die kontinuierliche Produktion von veredelten High-Tech-Folienoberflächen für Verpackung, Dekor, Sicherheit und Etikettierung, die durch Mikro- und Nanostruktureffekte verbesserte optische, mechanische und chemische Eigenschaften aufweisen.
Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur
• UV- und Heissprägen
• Rotationstiefdruck
• Inline-Monitoring
• Prägewerkzeuge
• UV-Prägelacke
• Step & Repeat UV-Nanoimprintanlage zur Herstellung flexibler, großflächiger (300 x 600 mm) und nahtlos strukturierter Prägestempel
Zuordnung zur Forschungsinfrastruktur
RISE Acreo AB, Polymer Competence Center Leoben GmbH, University of Massachusetts Amherst